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文献
J-GLOBAL ID：200902137891039066
整理番号：02A0849332 high-k/SiO2/Si構造のフォトレフレクタンス評価
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寒川雅之
(大阪大 基礎工)
, 神田浩文
(大阪大 基礎工)
, 金島岳
(大阪大 基礎工)
, 藤本晶
(和歌山工高専)
, 奥山雅則
(大阪大 基礎工)
資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集
(Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
応用物理学会学術講演会講演予稿集 について
巻： 63rd 号： 2 ページ： 710 発行年： 2002年09月24日
JST資料番号： Y0055A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*二酸化ケイ素
,...
二酸化ケイ素 について
分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
(BK14050P)
, その他の光学的効果
酸化物薄膜 について
(BM08040H)
その他の光学的効果 について
タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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SiO2
, SiO2 について
Si
, Si について
フォト
, フォト について
レフレクタンス
, レフレクタンス について
評価
評価 について
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