特許
J-GLOBAL ID:200903001467275471
基板の両面形状測定システム
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
松山 允之
, 河西 祐一
, 池上 徹真
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-246608
公開番号(公開出願番号):特開2007-057502
出願日: 2005年08月26日
公開日(公表日): 2007年03月08日
要約:
【課題】 大型・重量化した基板の表面および裏面の両面形状を、作業性に優れ簡便にしかも高精度に測定できる基板の両面形状測定システムを提供する。【解決手段】 基板の両面形状測定システムは、主要な構成装置として、基板形状測定装置1、基板ハンドリング・ロボット2およびコンピュータ3を備える。基板形状測定装置1は、垂直状態に配置した縦型定盤4と、それに平行に被測定基板Pを保持する基板保持機構5と、変位計走査コラム6とを有し、被測定基板Pの両面形状を同時に測定する。基板ハンドリング・ロボット2は、未測定の被測定基板Pを垂直状態にして上記基板保持機構5に装着し、あるいは測定済みの被測定基板Pを基板保持機構5から取り外す。ここで、基板形状測定装置1および基板ハンドリング・ロボット2は、コンピュータ3により一括制御される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
定盤の基準平面がほぼ垂直状態となるように配置された定盤と、被測定基板の板面が前記基準平面にほぼ平行になるように被測定基板を保持する保持機構と、前記定盤の基準平面と、前記保持機構によって保持された前記被測定基板の板面の一面との間に配置され、垂直面内において走査可能であり前記走査と共に前記定盤の基準平面との距離を測定する第1の変位計および前記被測定基板の板面の一面との距離を測定する第2の変位計と、前記板面の一面に対向する他面側に配置され、垂直面内において走査可能であり前記走査と共に前記板面の他面との距離を測定する第3の変位計と、を備えた基板形状測定装置と、
前記基板形状測定装置の前記保持機構への被測定基板の装着および前記保持機構からの前記被測定基板の取り外しを行う基板着脱装置と、
前記基板形状測定装置および前記基板着脱装置の動作を制御する処理制御装置と、
を有することを特徴とする基板の両面形状測定システム。
IPC (2件):
FI (2件):
G01B21/20 C
, G01B11/24 A
Fターム (26件):
2F065AA06
, 2F065AA30
, 2F065AA51
, 2F065BB01
, 2F065BB22
, 2F065CC25
, 2F065GG06
, 2F065JJ01
, 2F065JJ05
, 2F065MM07
, 2F065PP03
, 2F065PP11
, 2F065PP22
, 2F065QQ23
, 2F065TT02
, 2F069AA47
, 2F069AA61
, 2F069BB13
, 2F069CC06
, 2F069GG04
, 2F069GG07
, 2F069GG64
, 2F069JJ07
, 2F069MM02
, 2F069MM23
, 2F069MM26
引用特許:
出願人引用 (2件)
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特開平3-90805号公報
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基板表面の平坦度測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-238016
出願人:東芝セラミックス株式会社
審査官引用 (13件)
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