特許

J-GLOBAL ID：200903005082101141

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

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発明者： 安斉 竜一 ,  藤原 匡之 ,  上田 昭史
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211343
公開番号（公開出願番号）：特開2004-051785
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】波長250nm以下の光、特にArFエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記式(1)【化1】(式中、m、nはそれぞれ0〜3の整数を示し、R1は水素原子またはメチル基を示し、Z1は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、mとnが同時に0であることはない。)で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)

IPC (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC28Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA37

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 特開平1-242681
  
• 特開昭64-033182
  
• ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-188853   出願人：日本電気株式会社
• (メタ)アクリル酸5-オキソ-4,8-ジオキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-2-イルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-222562   出願人：株式会社クラレ
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-115497   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-231670   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-215574   出願人：富士写真フイルム株式会社
• (共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-276560   出願人：三菱レイヨン株式会社