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J-GLOBAL ID:200903005082101141

重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002211343
Publication number (International publication number):2004051785
Application date: Jul. 19, 2002
Publication date: Feb. 19, 2004
Summary:
【課題】波長250nm以下の光、特にArFエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記式(1)【化1】(式中、m、nはそれぞれ0〜3の整数を示し、R1は水素原子またはメチル基を示し、Z1は単環式飽和炭化水素構造または多環式飽和炭化水素構造を示す。ただし、mとnが同時に0であることはない。)で表される構成単位から選ばれる1種又は2種以上を構成単位として含有することを特徴とする重合体。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記式(1)
IPC (3):
C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (3):
C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (27):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL09Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC28Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (8)
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