特許
J-GLOBAL ID：200903005899999190

基板検査装置及び基板検査方法

発明者：
下田 勇一

下田 勇一 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-252392
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076071
出願日： 2006年09月19日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】基板の内部の欠陥を、基板の表面からの深さに関わらず検出する。【解決手段】投光系は、光線の焦点を光が透過する基板1の表面に合わせ、光線を基板1の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板1の走査を行う。下受光系は、複数の光ファイバーを束ねた受光部32を有し、基板1の裏面側に配置され、基板1の表面又は内部の欠陥により散乱されて基板1を透過した散乱光を受光する。基板1の内部に欠陥が存在する場合、複数の光ファイバーを束ねた受光部32で受光された散乱光は、縦横に広がった十字形状となる。欠陥検出回路35は、受光部32が受光した散乱光の形状的特徴から、基板1の内部の欠陥を検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光線の焦点を光が透過する基板の表面に合わせ、光線を基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を移動して光線による基板の走査を行う投光系と、 複数の光ファイバーを束ねた受光部を有し、基板の裏面側に配置され、基板の表面又は内部の欠陥により散乱されて基板を透過した散乱光を受光する受光系と、 前記受光系の焦点位置を基板の内部に合わせる焦点調節手段と、 前記受光部が受光した散乱光の形状的特徴から、基板の内部の欠陥を検出する検出手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/958 ,  G02F 1/13 ,  G03F 1/08
FI (3件)：
G01N21/958 ,  G02F1/13 101 ,  G03F1/08 T
Fターム (20件)：
2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB06 ,  2G051BA10 ,  2G051BB11 ,  2G051BC05 ,  2G051CA02 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2H088FA13 ,  2H088FA16 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  2H095BD04 ,  2H095BD05 ,  2H095BD20 ,  2H095BD26
引用特許：
出願人引用 (9件)
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