半導体ウェーハの洗浄・乾燥装置、及び洗浄・乾燥方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-051446
公開番号（公開出願番号）：特開2003-297795
出願日： 2003年02月27日
公開日（公表日）： 2003年10月17日
要約：

【要約】【課題】洗浄・乾燥効果が高められ、使用済みの洗浄液は循環させてリサイクルでき洗浄液の浪費を防ぎ、環境汚染を低減する半導体ウェーハの洗浄・乾燥装置、及び洗浄・乾燥方法を提供する。【解決手段】イソプロピルアルコール(IPA)と超純水とよりなる洗浄液を処理槽11に供給する前に所望の濃度にあらかじめ混合する。これにより、超純水による残留化合物の除去、ならびにIPAによる水斑の発生が効率よく抑制される。したがって、ウェーハの洗浄・乾燥効果を高められるとともに、洗浄液をリサイクルすることができる。

請求項（抜粋）：

外部から供給される洗浄液を収容し、その内部でウェーハの洗浄・乾燥が行われる処理槽と、前記処理槽内に供給する洗浄液を所定濃度に混合するものであって、外部のイソプロピルアルコールを供給されて収容するイソプロピルアルコールタンクと、外部の超純水を供給されて収容し前記イソプロピルアルコールタンクと連通してイソプロピルアルコールタンクに収容されているイソプロピルアルコールを供給されてその内部でイソプロピルアルコールと超純水とを混合させる混合タンクと、前記イソプロピルアルコールタンクに供給されるイソプロピルアルコールの流量及び混合タンクに供給される超純水の流量を感知する流量感知手段とを有する洗浄液混合ユニットと、前記混合タンクと処理槽とを連結し、混合タンク内の混合状態の洗浄液を前記処理槽内に供給する洗浄液供給部と、前記処理槽に内で洗浄済みの洗浄液を前記混合タンクに帰還させるリターンラインと、を備えることを特徴とする半導体ウェーハの洗浄・乾燥装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 642 , H01L 21/304 647 , H01L 21/304 648 , H01L 21/304

FI (7件)：

H01L 21/304 651 C , H01L 21/304 642 A , H01L 21/304 647 A , H01L 21/304 648 F , H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 648 K , H01L 21/304 651 L

引用特許：

審査官引用 (9件)

洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-019110 出願人：株式会社ニコン
基板の浸漬処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-145939 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板の薬液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-289732 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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