特許
J-GLOBAL ID：200903008363284171
パターン測定方法及びパターン測定装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-065072
公開番号（公開出願番号）：特開2009-222454
出願日： 2008年03月14日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】 本発明の目的はパターンエッジの傾斜を評価するのに好適な試料測定方法、及び試料測定装置の提供にある。【解決手段】 上記目的を達成するために、以下にパターンエッジについて、複数の輪郭線を形成し、その輪郭線間の寸法を評価する方法、及び装置を提案する。このように複数の輪郭線を形成することによって、パターンのエッジ部分の傾斜の程度を評価することが可能となる。また、エッジ部分の傾斜の程度の評価値を、面内分布表示することによって、テーパーが形成される要因を特定することが容易になる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
試料への荷電粒子線の走査によって、当該試料より放出される荷電粒子に基づいて画像データを形成し、当該画像データのパターンエッジを輪郭線化すると共に当該輪郭線を用いて前記試料上に形成されたパターンを測定するパターン測定方法において、
前記画像データ上にて第1の明るさを示す位置に沿って、第1の輪郭線を形成すると共に、前記画像データ上にて第2の明るさを示す位置に沿って第2の輪郭線を形成し、当該2つの輪郭線間の寸法を測定することを特徴とするパターン測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B15/04 K
, H01J37/22 502H
2F067AA13
, 2F067AA25
, 2F067AA26
, 2F067AA33
, 2F067AA54
, 2F067AA57
, 2F067BB04
, 2F067CC16
, 2F067CC17
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067KK08
, 2F067QQ02
, 2F067RR20
, 2F067RR24
, 2F067RR30
, 2F067RR36
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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