特許
J-GLOBAL ID：200903009392065647
較正方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-154694
公開番号（公開出願番号）：特開2008-010862
出願日： 2007年06月12日
公開日（公表日）： 2008年01月17日
要約：
【課題】精度が改善されたCD応答モデルに基づいてCDを制御する。【解決手段】印刷されたクリティカルディメンジョンを露光ドーズ量設定値および焦点設定値の関数として測定するために、リソグラフィ投影装置を使用して試験基板に一連の試験パターン200を印刷する方法が提供される。測定したクリティカルディメンジョンデータの全基板解析が、クリティカルディメンジョンの応答モデルによってモデル化される。応答モデルには、試験基板の表面に対する応答の空間可変性を表す付加項が含まれている。この方法には、さらに、測定したクリティカルディメンジョンデータを使用してモデルパラメータを当てはめることによってモデルを当てはめるステップと、当てはめられたモデルを使用してクリティカルディメンジョンを制御するステップが含まれている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
印刷されたフィーチャのサイズと、基板の表面に前記フィーチャを印刷するために使用されるリソグラフィ装置の動作パラメータの値との間の関係を較正する方法であって、
前記リソグラフィ装置の前記動作パラメータの第1の複数の個々の異なる値が予め選択され、
対応する第1の複数の相互に排他的な個々の位置のサブセットを含む前記基板上の第2の複数の異なる位置が予め選択され、
個々の位置のサブセットの各々の位置が、前記動作パラメータの対応する個々の値に関連付けられ、前記方法が、
前記第2の複数の位置の各々に前記フィーチャを印刷するステップであって、前記動作パラメータの前記値が、位置毎に、対応する関連値に設定されるステップと、
前記印刷されたフィーチャの各々の前記サイズを測定するステップと、
第1のセットの膨張係数によって特徴付けられた前記動作パラメータの前記値における膨張と、第2のセットの膨張係数によって特徴付けられた位置の座標における膨張の合計として前記サイズをモデル化するステップと、
前記係数の第1および第2のセットに基づいてモデル化されたフィーチャサイズを、前記係数の第1および第2のセットの係数を適合させることによって前記測定フィーチャサイズに当てはめるステップと、
前記第1のセットの係数の適合済み係数を記憶媒体に記憶するステップと
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516Z
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046DD06
