特許
J-GLOBAL ID：200903010112025163
フォトリソグラフィの方法およびフォトリソグラフィ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-533004
公開番号（公開出願番号）：特表2004-511092
出願日： 2001年09月25日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
リソグラフィの方法が開示される。かかる1つの方法において、10mJ/cm2/パルス未満のフルエンスで約300nmより短い波長の紫外リソグラフィ放射線を形成するためのパルス紫外線源および約0.02×1018分子/cm3〜約0.18×1018分子/cm3の濃度の水素分子を有する高純度溶融シリカリソグラフィガラスが、設けられる。リソグラフィパターンは、紫外リソグラフィ放射線を用いて形成される。リソグラフィパターンは、縮小リソグラフィパターンを形成するために縮小され、縮小リソグラフィパターンが紫外線感受性リソグラフィ媒体に投影されて、印刷リソグラフィパターンを形成する。形成、縮小、および投影のステップのうち少なくとも1つのステップは、高純度溶融シリカ光学部材によって紫外リソグラフィ放射線を透過することを含む。リソグラフィ装置および高純度溶融シリカ光学部材についても記載される。
請求項（抜粋）：
10mJ/cm2/パルス未満のフルエンスで約300nmより短い波長の紫外リソグラフィ放射線を形成するためのパルス紫外線源を形成するステップと、
約0.02×1018分子/cm3〜約0.18×1018分子/cm3の濃度の水素分子を有する高純度溶融シリカリソグラフィガラスを形成するステップと、
紫外リソグラフィ放射線によってリソグラフィパターンを形成するステップと、
前記リソグラフィパターンを縮小して縮小リソグラフィパターンを形成するステップと、
前記縮小リソグラフィパターンを紫外線感受性リソグラフィ媒体に投影して、印刷リソグラフィパターンを形成するステップと、を有してなり、前記形成、前記縮小、および前記投影のステップの少なくとも1つが、前記高純度溶融シリカリソグラフィガラスによって前記紫外リソグラフィ放射線を透過するステップを含むリソグラフィ方法。
IPC (5件)：
H01L21/027
, C03C3/06
, G02B1/00
, G03F7/00
, G03F7/20
H01L21/30 515D
, C03C3/06
, G02B1/00
, G03F7/00
, G03F7/20 502
2H096AA28
, 2H096BA20
, 2H096EA05
, 2H096EA23
, 2H097AA03
, 2H097BB02
, 2H097CA13
, 2H097LA10
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062MM04
, 4G062NN16
, 4G062NN29
, 4G062NN34
, 5F046BA04
, 5F046CA04
, 5F046CB12
, 5F046CB25
