特許
J-GLOBAL ID：200903010258300131

ポジ型感放射線性組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造方法

発明者：
仁王 宏之

仁王 宏之 について

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田村 一貴

田村 一貴 について

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妹尾 将秀

妹尾 将秀 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-103440
公開番号（公開出願番号）：特開2002-372785
出願日： 2002年04月05日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】a)ラクトン残基を有する構造単位と、芳香環を有する構造単位を含む重合体と、b)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成してアルカリ現像液に可溶化する重合体であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物、およびこれを用いたレジストパターンの製造方法。
請求項（抜粋）：
a)ラクトン残基を有する構造単位と、芳香環を有する構造単位を含む重合体と、b)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物であって、a)が酸の作用によりアルカリ可溶性基を生成してアルカリ現像液に可溶化する重合体であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/42 ,  C08F212/04 ,  C08F214/00 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 20/10 ,  C08F 20/42 ,  C08F212/04 ,  C08F214/00 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (52件)：
2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025EA10 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07Q ,  4J100AC07Q ,  4J100AC11Q ,  4J100AC21Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16P ,  4J100AL16Q ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AL74Q ,  4J100AL91Q ,  4J100AM03P ,  4J100AM03Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA10Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22Q ,  4J100BA41Q ,  4J100BA53Q ,  4J100BA55Q ,  4J100BA76Q ,  4J100BB03Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC23Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC49Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC69Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (13件)
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