特許
J-GLOBAL ID：200903010560785322

薄膜形成用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いた感光材料

発明者：
前盛 諭

前盛 諭 について

, 
佐藤 和史

佐藤 和史 について

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新田 和行

新田 和行 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-284132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-091003
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：
【要約】【課題】 総合的な品質管理上必要なディフェクト低減を実現するのに有効で、しかも感度、解像度が優れ、塗布むらの発生がなく、良好なレジストパターン形状を与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び所望に応じ(C)第三級脂肪族アミン又は(D)有機カルボン酸あるいは(C)及び(D)の両方を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量を50ppm以下に調整する。
請求項（抜粋）：
(A)放射線の照射により酸を発生する化合物及び(B)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有してなる化学増幅型ポジ型レジスト組成物において、界面活性剤の含有量が50ppm以下に調整されていることを特徴とする薄膜形成用ポジ型レジスト組成物。
IPC (11件)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027
FI (12件)：
G03F 7/039 601 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 574
Fターム (44件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB15 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  4J002BC04W ,  4J002BC04X ,  4J002BC12W ,  4J002BC12X ,  4J002BK001 ,  4J002CE001 ,  4J002EF038 ,  4J002EF078 ,  4J002EF088 ,  4J002EF098 ,  4J002EF108 ,  4J002EF118 ,  4J002EN028 ,  4J002EN108 ,  4J002EQ016 ,  4J002ES006 ,  4J002EU186 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD317 ,  4J002GP03 ,  5F046PA02 ,  5F046PA03 ,  5F046PA04 ,  5F046PA05
引用特許：
審査官引用 (12件)
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