特許
J-GLOBAL ID：200903084215209584

フォトレジスト組成物

発明者：
難波 克彦

難波 克彦 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-184169
公開番号（公開出願番号）：特開2002-006483
出願日： 2000年06月20日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】 樹脂と酸発生剤を含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のレジスト組成物であって、感度、解像度、耐熱性、残膜率、塗布性、プロファイルなどの優れた諸性能を維持しながら、現像欠陥を生じさせないフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 バインダー成分、酸発生材及びフッ素原子を含む界面活性剤(特に一般式(I))を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。(式中、R1〜R5は、それぞれ独立に水素、フッ素原子、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数5から7のシクロアルキル基を表し、nは10〜10000を表す)
請求項（抜粋）：
バインダー成分、酸発生材及びフッ素原子を含む界面活性剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (11件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/43 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 501 ,  H01L 21/027
FI (11件)：
G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/43 ,  C08L 83/08 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/075 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (36件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC04 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002BC011 ,  4J002BC121 ,  4J002BG011 ,  4J002BG071 ,  4J002CP082 ,  4J002EJ068 ,  4J002EN067 ,  4J002EU037 ,  4J002EU117 ,  4J002EU137 ,  4J002EU188 ,  4J002EU237 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03
引用特許：
審査官引用 (47件)
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