特許
J-GLOBAL ID：200903011693265891

薄膜デバイス用ガラス基板およびその成膜方法

発明者：
杉山 享司

杉山 享司 について


出願人/特許権者：
旭硝子株式会社

旭硝子株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-000638
公開番号（公開出願番号）：特開2007-184361
出願日： 2006年01月05日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【課題】成膜装置のロードロックチャンバの排気時に発生するパーティクルが基板に付着し、基板上に成膜する膜内に取り込まれることにより膜に欠点が生ずる。【解決手段】ガラス基板の成膜を行う面に光触媒特性を有する薄膜デバイス用ガラス基板の提供し、および、この基板を用いて成膜する前に、この基板の成膜を行う面に紫外光または可視光を照射する成膜方法を提供する。特に非常に厳しい欠点の仕様が要求される極端紫外光反射型リソグラフィ用マスクブランク用基板、およびその基板への成膜方法を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
成膜を行う面が光触媒特性を有することを特徴とする、薄膜デバイス用ガラス基板。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  B01J 35/02
FI (3件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/16 A ,  B01J35/02 J
Fターム (28件)：
2H095BB30 ,  2H095BC24 ,  2H095BC27 ,  4G169AA03 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14A ,  4G169BA14B ,  4G169BA48A ,  4G169EB15X ,  4G169EB15Y ,  4G169HA12 ,  4G169HB01 ,  4G169HD07 ,  4G169HD10 ,  4G169HD13 ,  4G169HD14 ,  4G169HD23 ,  4G169HE06 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA11 ,  4K029BA35 ,  4K029BB02 ,  4K029BD09 ,  4K029CA05 ,  5F046GD01 ,  5F046GD10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (11件)
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