特許
J-GLOBAL ID：200903013578816500
水素分離用薄膜の製造方法およびパラジウムめっき浴
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
千明 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-055910
公開番号（公開出願番号）：特開2005-248192
出願日： 2004年03月01日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】 例えば改質型燃料電池に使用する水素分離膜の製造に好適で、水素分離膜を薄膜化し、水素を高純度に分離でき、燃料改質器の小形軽量化と改質反応の高効率化と経済性を図れ、しかもピンホ-ルがなく緻密かつ均一な薄膜を安価に得られるとともに、水素分離膜としてパラジウム薄膜をめっき法により製造する際のめっき浴に好適で、めっき液の使用量を低減し均一なパラジウム皮膜を析出できるとともに、めっきの生産性を向上できる、水素分離用薄膜の製造方法およびパラジウムめっき浴を提供すること。【解決手段】 反応浴1に収容しためっき液10中の金属イオンを被めっき物18に析出させる水素分離用薄膜の製造方法であること。 前記反応浴1にめっき液10と、超臨界状態またはその形成物質と、界面活性剤11とを収容する。 前記反応浴1に超臨界状態とエマルジョン状態とを形成後、前記金属イオンを拡散させ被めっき物18に析出させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
反応浴に収容しためっき液中の金属イオンを被めっき物に析出させる水素分離用薄膜の製造方法において、前記反応浴にめっき液と、超臨界状態またはその形成物質と、界面活性剤とを収容し、該反応浴に超臨界状態とエマルジョン状態とを形成後、前記金属イオンを拡散させ被めっき物に析出させることを特徴とする水素分離用薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (10件)：
4K022AA02
, 4K022AA04
, 4K022AA43
, 4K022BA28
, 4K022DA03
, 4K022DB03
, 4K022DB04
, 5H027AA06
, 5H027BA01
, 5H027BA16
出願人引用 (3件)
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燃料電池
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-145437
出願人：島宗孝之, 吉川公
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電気化学的反応方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-253572
出願人：吉田英夫, 宮田清蔵, 浅井美博
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無電解パラジウムめっき液
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-299572
出願人：日立化成工業株式会社
審査官引用 (14件)
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