特許
J-GLOBAL ID：200903013710750319
超高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-330137
公開番号（公開出願番号）：特開2005-123203
出願日： 2004年11月15日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：
【課題】VHFプラズマの表面処理への応用において、大面積・高均一の超高周波プラズマ表面処理が可能な表面処理装置および表面処理方法を提供すること。【解決手段】第1の電極2上の互いに対向する位置に配置された第1の給電点21及び第2の給電点27に、2台のパルス変調可能な位相可変2出力の高周波電源15,28から出力される時間的に分離されたパルス電力を供給することにより、腹の位置がλ/4離れた2つの独立した定在波を発生させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
内部に基板がセットされる、排気系を備えた真空容器と、この真空容器内に放電用ガスを供給する放電用ガス供給系と、プラズマを生成する第1及び第2の電極から成る一対の電極と、任意のパルス変調が可能で、かつ、2出力でかつ該2出力の電圧の位相差を任意に設定可能な第1の高周波電源及び該第1の高周波電源の2つの出力端子に接続された第1及び第2のインピーダンス整合器及び該第1の高周波電源のパルス変調信号に同期した任意のパルス変調が可能で、かつ、2出力でかつ該2出力の電圧の位相差を任意に設定可能な第2の高周波電源及び該第2の高周波電源の2つの出力端子に接続された第3及び第4のインピーダンス整合器から成る電力供給系とを具備し、生成したプラズマを利用して基板の表面を処理するプラズマ表面処理装置に用いられる超高周波プラズマ発生用電極であって、前記第1の電極に配置された第1の給電点に、前記第1のインピーダンス整合器の出力端子と、前記第3のインピーダンス整合器の出力端子が接続され、かつ、前記第1の給電点に対して高周波電力波の伝播上での対向点となる関係にある位置に配置された第2の給電点に、前記第2のインピーダンス整合器の出力端子と、前記第4のインピーダンス整合器の出力端子が接続されるという構成を有することを特徴とする超高周波プラズマ発生用電極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
4K030AA06
, 4K030BA30
, 4K030CA06
, 4K030CA12
, 4K030FA03
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030JA18
, 4K030JA19
, 4K030KA14
, 4K030KA15
, 4K030KA46
, 4K030LA16
, 5F045AA08
, 5F045AB02
, 5F045AB03
, 5F045AB04
, 5F045AC01
, 5F045BB02
, 5F045EH01
, 5F045EH04
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (9件)
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