特許
J-GLOBAL ID:200903017861653671
表面検査装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
ポレール特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-042241
公開番号(公開出願番号):特開2007-256272
出願日: 2007年02月22日
公開日(公表日): 2007年10月04日
要約:
【課題】本発明は、不良が発生したウエハの端部の状態をプロセス全体にわたって容易に観察、追跡ができる機能を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、ウエハ外周部を検査するウエハ表面検査装置において、ウエハ外周部の画像を撮るレンズ系およびCCDカメラと、撮った画像データを記憶する記憶手段と、記憶装置に記憶されている画像データを表示する表示手段とを有することを特徴とする。 更に、具体的に述べると、本発明はプリアライメント部に載せてウエハを回転させ、ウエハのオリエンテーションフラット部あるいはノッチ部の位置合わせを行う部位に、レンズ系とCCDカメラにより、ウエハ端部の外周1週分の画像を記録し、記憶装置に取り込み、CRT上に表示させる機能を有することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被検査物外周部を検査する表面検査装置において、
前記被検査物外周部の画像を撮るレンズ系およびCCDカメラと、
撮った画像データを記憶する記憶手段と、
前記記憶手段に記憶されている画像データを表示する表示手段とを有することを特徴とする表面検査装置。
IPC (4件):
G01N 21/956
, G01N 21/88
, H01L 21/66
, G01B 11/30
FI (4件):
G01N21/956 A
, G01N21/88 Z
, H01L21/66 J
, G01B11/30 Z
Fターム (41件):
2F065AA49
, 2F065BB03
, 2F065CC19
, 2F065FF04
, 2F065GG17
, 2F065JJ02
, 2F065JJ25
, 2F065LL02
, 2F065LL08
, 2F065MM04
, 2F065QQ24
, 2F065QQ31
, 2F065SS06
, 2F065SS13
, 2G051AA51
, 2G051AA90
, 2G051AB01
, 2G051AB08
, 2G051BB01
, 2G051BB05
, 2G051BB11
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051DA08
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051ED12
, 2G051ED15
, 2G051FA01
, 2G051FA02
, 2G051FA04
, 4M106AA01
, 4M106BA20
, 4M106CA41
, 4M106CA46
, 4M106DB04
, 4M106DB19
, 4M106DJ17
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
欠陥観察方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-274334
出願人:株式会社日立ハイテクノロジーズ
審査官引用 (16件)
-
欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-032545
出願人:オリンパス株式会社
-
外観検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-129402
出願人:オリンパス株式会社
-
基板検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-242638
出願人:オリンパス株式会社
-
撮像装置,光学式測定装置および光学式検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-187569
出願人:富士機械製造株式会社
-
特開昭57-173706
-
顕微鏡および薄板エッジ検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-246929
出願人:オリンパス株式会社
-
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-004073
出願人:ソニー株式会社
-
欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-262520
出願人:株式会社神戸製鋼所, ジェネシス・テクノロジー株式会社
-
観察装置及び観察方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-038178
出願人:株式会社日立製作所
-
ウエハ検査方法及びシステム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-176744
出願人:ライカマイクロシステムスセミコンダクタゲーエムベーハー
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基板外観検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-230488
出願人:花王株式会社
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幅寸法測定装置および薄膜位置測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-002574
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
ウエハ異物検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-109809
出願人:日立電子エンジニアリング株式会社
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端部検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-129894
出願人:株式会社ニコン
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撮像システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-128742
出願人:大倉インダストリー株式会社
-
ウェーハ測定方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-110260
出願人:株式会社堀場製作所
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