特許
J-GLOBAL ID：200903019557310361
大気圧プラズマジェット装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
足立 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-317241
公開番号（公開出願番号）：特開2008-130503
出願日： 2006年11月24日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
【課題】プラズマプルームが長く、材料が様々な表面形状を持っていても、効率よく表面改質できる大気圧プラズマジェット装置を提供すること。【解決手段】単1のガス種、又はプラズマ中において相互に化学反応しにくい2以上のガス種から成る原料ガスを用いて大気圧プラズマジェット25を発生させる大気圧プラズマジェット発生手段3と、大気圧プラズマジェット25への、雰囲気ガスの混入を防止する混入防止手段である処理室上部31,下部33と、を備える。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
単1のガス種、又はプラズマ中において相互に化学反応しにくい2以上のガス種から成る原料ガスを用いて大気圧プラズマジェットを発生させる大気圧プラズマジェット発生手段と、
前記大気圧プラズマジェットへの、雰囲気ガスの混入を防止する混入防止手段と、
を備えることを特徴とする大気圧プラズマジェット装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (1件)
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大域大気圧プラズマジェット
公報種別：公表公報
出願番号：特願2000-612978
出願人：ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
審査官引用 (10件)
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