スピン処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-228258
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045772
出願日： 2001年07月27日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】この発明は基板を処理する第1の処理液と第2の処理液とを確実に分離して回収することができるスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】装置本体2内に設けられ上面が開口したカップ体4と、このカップ体内に設けられた回転体5と、カップ体の上面開口よりもわずかに小径な円盤状であって、回転体に保持される基板10の下面側に位置するように設けられた遮蔽部材25と、遮蔽部材がカップ体内部に位置する下降位置とカップ体の開口面よりも上方に位置する上昇位置とに回転体を上下駆動する上下駆動シリンダ15と、カップ体の内部に連通し回転体が下降位置の状態で基板に供給される第1の処理液をカップ体内から排出する内部排液口35と、カップ体の外部で装置本体の内部に連通し回転体が上昇位置の状態で基板に供給されてカップ体の外部を流れる第2の処理液を排出する外部排液口38とを具備する。

請求項（抜粋）：

基板を第1の処理液と第2の処理液とで処理するスピン処理装置において、装置本体と、この装置本体内に設けられ上面が開口したカップ体と、このカップ体内に設けられ上記基板を保持して回転駆動される回転体と、上記カップ体の上面開口よりもわずかに小径な円盤状であって、上記回転体にこの回転体に保持される基板の下面側に位置するように設けられた遮蔽部材と、この遮蔽部材が上記カップ体内部に位置する下降位置と、上記カップ体の開口面よりも上方に位置する上昇位置とに上記回転体を上下駆動する上下駆動手段と、上記カップ体の内部に連通して設けられ上記回転体が上記下降位置の状態で上記基板に供給される上記第1の処理液を上記カップ体内から排出する内側排液部と、上記カップ体の外部で上記装置本体の内部に連通して設けられ上記回転体が上記上昇位置の状態で上記基板に供給されて上記カップ体の外部を流れる上記第2の処理液を排出する外側排液部とを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , B08B 3/02 , G03F 7/30 502 , H01L 21/306 , H01L 21/304 643 , H01L 21/304 648

FI (6件)：

B08B 3/02 B , G03F 7/30 502 , H01L 21/304 643 A , H01L 21/304 648 K , H01L 21/30 569 C , H01L 21/306 J

Fターム (25件)：

2H096AA25 , 2H096GA29 , 3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB43 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CC13 , 3B201CD11 , 5F043AA01 , 5F043BB27 , 5F043DD13 , 5F043EE07 , 5F043EE08 , 5F043EE09 , 5F043EE33 , 5F043EE37 , 5F043GG10 , 5F046LA04 , 5F046LA06 , 5F046LA07

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-349371 出願人：東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-343780 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-349202 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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