特許
J-GLOBAL ID：200903020471213850

インジウム系酸化物微粒子およびその製造方法、ならびにインジウム系酸化物微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材、表示装置

発明者：
俵 迫 祐 二

俵 迫 祐 二 について

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金 南 憲

金 南 憲 について

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平 井 俊 晴

平 井 俊 晴 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-133213
公開番号（公開出願番号）：特開2003-327428
出願日： 2002年05月08日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】帯電防止性、反射防止性および電磁遮蔽性等に優れるとともに、被膜の強度、透明性にも優れた透明導電性被膜の形成に用いることのできるインジウム系酸化物微粒子を提供する。【解決手段】X線回折パターンにおいて、少なくともインジウム酸化物に帰属される面指数(2,2,2)におけるピーク(PA)およびインジウム水酸化物に帰属される面指数(2,0,0)におけるピーク(PB1)、面指数(2,2,0)におけるピーク(PB2)を有し、ピーク(PB2)のピーク高(HPB2)とピーク(PA)のピーク高(HPA)との比(HPB2)/(HPA)が1/2以下であるインジウム系酸化物微粒子。下記の工程からなるインジウム系酸化物微粒子の製造方法;(a)インジウム系水酸化物の有機溶媒分散液を調製する工程、(b)前記有機溶媒分散液を120〜400°Cの温度範囲で加熱処理する工程、または、(a')インジウム系水酸化物とインジウム系酸化物種粒子との有機溶媒混合分散液を調製する工程、(b)インジウム系水酸化物の有機溶媒分散を120〜400°Cの温度範囲で加熱処理する工程。
請求項（抜粋）：
X線回折パターンにおいて、少なくともインジウム酸化物に帰属される面指数(2,2,2)におけるピーク(PA)およびインジウム水酸化物に帰属される面指数(2,0,0)におけるピーク(PB1)、面指数(2,2,0)におけるピーク(PB2)を有し、ピーク(PB2)のピーク高(HPB2)とピーク(PA)のピーク高(HPA)との比(HPB2)/(HPA)が1/2以下であることを特徴とするインジウム系酸化物微粒子。
IPC (7件)：
C01G 15/00 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 ,  C01G 19/00 ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/24
FI (7件)：
C01G 15/00 B ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/02 104 ,  B32B 9/00 A ,  C01G 19/00 A ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/24
Fターム (35件)：
4F100AA17B ,  4F100AA33B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100DE01B ,  4F100GB41 ,  4F100JD08 ,  4F100JG01B ,  4F100JM01 ,  4F100JN01B ,  4F100JN01C ,  4F100JN18C ,  4J038DL031 ,  4J038HA156 ,  4J038HA211 ,  4J038JA19 ,  4J038JA20 ,  4J038JA25 ,  4J038JA26 ,  4J038JA27 ,  4J038JA30 ,  4J038JA33 ,  4J038JA54 ,  4J038JA55 ,  4J038JA56 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038NA20 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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