特許
J-GLOBAL ID：200903021825669143
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
廣田 浩一
, 流 良広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-128749
公開番号（公開出願番号）：特開2006-018228
出願日： 2005年04月26日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。【解決手段】 感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成する感光層形成工程と、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、不活性ガス雰囲気下で、前記感光層を、露光する露光工程と、該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを備えたパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
バインダー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、感光層を形成する感光層形成工程と、
光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、不活性ガス雰囲気下で、前記感光層を、露光する露光工程と、
該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを含んでなることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20
, G02B 5/20
, G03F 7/004
G03F7/20 501
, G02B5/20 101
, G03F7/004 505
, G03F7/004 512
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB13
, 2H025AC01
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025CC11
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA30
, 2H048BA02
, 2H048BA48
, 2H048BA64
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H097BA06
, 2H097EA01
, 2H097GB04
, 2H097LA09
, 2H097LA11
, 2H097LA15
, 2H097LA17
, 2H097LA20
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (17件)
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