特許
J-GLOBAL ID:200903022963217551
窒化物半導体素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
豊栖 康弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-348665
公開番号(公開出願番号):特開2000-232237
出願日: 1999年12月08日
公開日(公表日): 2000年08月22日
要約:
【要約】【課題】 種々の応用製品への適用範囲の拡大を可能とするため、発光出力のさらなる向上が可能となる窒化物半導体発光素子を提供することである。【解決手段】 活性層7を挟むように、互いに組成の異なるn型多層膜層6[Al<SB>2</SB>Ga<SB>1-z</SB>N(0≦z<1)とIn<SB>p</SB>Ga<SB>1-p</SB>N(0<p<1)とからなる]と、p型多層膜層8[Al<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>N(0<x<1)とIn<SB>y</SB>Ga<SB>1-y</SB>N(0≦y<1)とからなる。]とを形成してなる。
請求項(抜粋):
n型窒化物半導体とp型窒化物半導体との間に、活性層を有する窒化物半導体素子において、n型窒化物半導体にn型多層膜層を、p型窒化物半導体にp型多層膜層をそれぞれ有し、前記n型多層膜層を構成する窒化物半導体の組成と、p型多層膜層を構成する窒化物半導体の組成とが、異なることを特徴とする窒化物半導体素子。
引用特許:
出願人引用 (11件)
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特開平3-229480
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窒化ガリウムアルミニウム半導体の結晶成長方法。
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-292304
出願人:日亜化学工業株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-154708
出願人:日亜化学工業株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-219892
出願人:ローム株式会社
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3-5族化合物半導体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-213280
出願人:住友化学工業株式会社
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半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-293580
出願人:ソニー株式会社
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窒化物半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-286732
出願人:日亜化学工業株式会社
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GaN系発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-311441
出願人:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩, 科学技術振興事業団
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窒化物半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-348972
出願人:日亜化学工業株式会社
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窒化物半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-023048
出願人:日亜化学工業株式会社
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窒化物半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-112909
出願人:日亜化学工業株式会社
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