特許
J-GLOBAL ID：200903024095159763

微細構造形成方法

発明者：
福田 浩章

福田 浩章 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-120493
公開番号（公開出願番号）：特開2005-303197
出願日： 2004年04月15日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 フォトリソグラフィをプラズモンを用いて、正確にパターンを転写し、複雑な微細構造を安定に形成することを目的とする。【解決手段】 基板上33にフォトレジスト層32を形成するフォトレジスト層形成工程と、前記フォトレジスト層32に前記微細パターンの金属構造を有するマスク基体34を、該フォトレジスト層と金属構造を互い接触させて露光する露光工程と、前記露光された感光樹脂層を現像して前記構造体を形成する工程とからなり、前記露光工程は、前記マスク基体34に光を照射して、前記金属構造と接触するフォトレジスト層32の領域を感光させる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板上に微細パターンを有する構造体を形成する微細構造形成方法であって、 前記基板上にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト層形成工程と、 前記フォトレジスト層に前記微細パターンの金属構造を有するマスク基体を、該フォトレジスト層と金属構造を互い接触させて露光する露光工程と、 前記露光された感光樹脂層を現像して前記構造体を形成する工程とからなり、 前記露光工程は、前記マスク基板に光を照射して、前記金属構造と接触するフォトレジスト層の領域を感光させることを特徴とする微細構造形成方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F1/14 ,  G03F7/20
FI (5件)：
H01L21/30 502D ,  G03F1/08 G ,  G03F1/14 A ,  G03F1/14 F ,  G03F7/20 521
Fターム (13件)：
2H095BA12 ,  2H095BB25 ,  2H095BB26 ,  2H095BC05 ,  2H095BC13 ,  2H095BC24 ,  5F046BA10 ,  5F046CB10 ,  5F046CB17 ,  5F046DA01 ,  5F046DA08 ,  5F046DA20 ,  5F046PA01
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 微細パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-119670   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (9件)
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