特許
J-GLOBAL ID：200903024355584331

レジスト剥離装置およびそれを用いたデバイスの製造方法

発明者：
登坂 久雄

登坂 久雄 について

, 
田中 良孝

田中 良孝 について


出願人/特許権者：
カシオ計算機株式会社

カシオ計算機株式会社 について


代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-289988
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100555
出願日： 2000年09月25日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：
【要約】【課題】 レジスト剥離液のレジスト剥離能力を復元する。【解決手段】 レジスト剥離液3のレジスト剥離能力を大きく劣化させる要因が、大気中の二酸化炭素がレジスト剥離液3に溶け込むことであることに着目し、レジスト剥離液3に溶け込んだ二酸化炭素の濃度を、pH電極16を介してpHメータ17で測定したpH値に基づいて、検出し、この検出結果に基づいてMEA(モノエタノールアミン)溶液13を補給する。
請求項（抜粋）：
レジスト剥離液を用いてレジストを剥離し、使用後のレジスト剥離液を回収して再使用するレジスト剥離装置において、レジスト剥離液に溶け込んだ二酸化炭素の濃度を検出する二酸化炭素濃度検出手段と、この二酸化炭素濃度検出手段による検出結果に基づいてレジスト剥離液にアミン溶液を補給するアミン溶液補給手段とを具備することを特徴とするレジスト剥離装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/304 648
FI (4件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 J
Fターム (11件)：
2H096AA25 ,  2H096LA02 ,  5F043CC16 ,  5F043DD30 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24 ,  5F043EE33 ,  5F043GG10 ,  5F046MA02 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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