特許
J-GLOBAL ID：200903026122469454

露光装置

発明者：
原 浩通

原 浩通 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-005890
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221251
出願日： 2003年01月14日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】基板を真空雰囲気内で露光する露光装置において、露光構造体を真空雰囲気内で高精度に支持可能とする。【解決手段】基板を真空雰囲気内で露光する露光装置において、金属ベローズ59を用いて形成された除振マウント11,51,91を真空チャンバ3内に設け、前記除振マウントにより前記真空チャンバ内のマスクステージ定盤6、ウエハステージ定盤8、鏡筒定盤10等の露光構造体を支持する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を真空雰囲気内で露光する露光装置において、金属ベローズを用いて形成された除振機構を真空チャンバ内に設け、前記除振機構により前記真空チャンバ内の露光構造体を支持することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  F16F13/20
FI (3件)：
H01L21/30 531A ,  H01L21/30 503F ,  F16F13/00 620T
Fターム (11件)：
3J047AA08 ,  3J047AB02 ,  3J047FA10 ,  5F046AA21 ,  5F046AA23 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA11 ,  5F046GA12 ,  5F046GA14 ,  5F046GA20
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (19件)
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