特許
J-GLOBAL ID:200903026142529070
プラズマ発生方法及び装置並びにオゾン発生方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-344717
公開番号(公開出願番号):特開2005-116187
出願日: 2003年10月02日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】 大気圧若しくはその近傍で高価な雰囲気ガスを必要とせずに安定してプラズマを発生させることができるプラズマ発生方法及び装置を提供する。【解決手段】 電圧波形パターンを記憶した記憶部9若しくはパターン発生部と、電圧波形パターンを用いて高周波電圧波形を生成する制御部10と、高周波電圧波形を高電圧の印加電圧に変換する高電圧変換部13と、高周波電圧が印加される一対の電極1、2と、少なくとも一方の電極表面に配設された誘電体3、4と、電極1、2間のプラズマ発生空間5に反応ガス6を導入する手段とを備え、任意の電圧波形パターンを読み出して状況に応じて最適な高周波電圧波形を生成し、高電圧の高周波電圧に変換して電極1、2に印加するようにした。また、オゾン発生においても、同様の構成により低コストの構成にて高い信頼性をもってオゾンの発生効率を向上できる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
任意の電圧波形パターンを読み出し若しくは生成する工程と、電圧波形パターンを用いて高周波電圧波形を生成する工程と、高周波電圧波形を高電圧の高周波電圧に変換する工程と、少なくとも一方の表面に誘電体を配設してなる一対の電極に高周波電圧を印加し、電極間のプラズマ発生空間に反応ガスを導入してプラズマを発生する工程とを有することを特徴とするプラズマ発生方法。
IPC (3件):
H05H1/24
, C01B13/11
, H05H1/00
FI (3件):
H05H1/24
, C01B13/11 K
, H05H1/00 A
Fターム (4件):
4G042CA01
, 4G042CC04
, 4G042CC16
, 4G042CD03
引用特許: