特許
J-GLOBAL ID：200903030456475630
グレートーンマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
浜野 孝雄
, 森田 哲二
, 平井 輝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-325280
公開番号（公開出願番号）：特開2007-133098
出願日： 2005年11月09日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】マスク加工プロセスに必要な耐薬品性(硫酸に対して等)及び機械強度をもち、液晶カラーディスプレイ製造のコストダウン化技術に必要であり、優れた加工性を有したグレートーンマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、半透光部を形成する半透光膜が第一の薄膜として形成した金属Cr膜と、この第一の薄膜上に第二の薄膜として形成した酸化Cr膜、又は酸窒化Cr膜、又は窒化Cr膜とで構成される。また、グレートーンマスクの製造方法は、フォトリソ工程で形成したCr膜フォトマスクの開口部の一部に半透光膜を形成することから成る。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
遮光部と、開口部と、半透光部とから成るパターンを有するグレートーンマスクにおいて、前記半透光部を形成する半透光膜がCr金属膜を主要素としていることを特徴とするグレートーンマスク。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB05
, 2H095BC09
, 2H095BC24
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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