特許
J-GLOBAL ID：200903031248752260

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

発明者：
加藤 隆志

加藤 隆志 について

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寺沢 千明

寺沢 千明 について

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石井 弘之

石井 弘之 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-167422
公開番号（公開出願番号）：特開2000-352667
出願日： 1999年06月14日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：
【要約】【課題】非球面を用いることによりNa0.65程度、露光領域φ27.3mm程度を達成した高NAで広い露光領域を有してレチクルパターンを半導体ウエハに投影露光することができる投影露光装置を得ること。【解決手段】物体の像を像面に投影する投影光学系において、該投影光学系は物体側より順に、正、負、正、負そして正の屈折力の第1、第2、第3、第4、第5レンズ群を有し、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhbとしたとき、|hb /h|>0.35を満足する面の少なくとも2面を非球面とし、該2つの非球面は光軸からレンズ有効径までの最大非球面量を△ASPH、物像間距離をLとしたとき、|△ASPH/L|>1×10-6 を満足し、かつ面の中心から周辺部にかけて、互いに局所曲率パワーの変化が逆符号の領域を有すること。
請求項（抜粋）：
物体の像を像面に投影する投影光学系において、該投影光学系は物体側より順に、正の屈折力を有する第1レンズ群L1と、負の屈折力を有する第2レンズ群L2と、正の屈折力を有する第3レンズ群L3と、負の屈折力を有する第4レンズ群L4と、正の屈折力を有する第5レンズ群L5とを有し、軸上マージナル光線の高さをh、最軸外主光線の高さをhb としたとき、|hb /h|>0.35を満足する面の少なくとも2面を非球面とし、該2つの非球面は光軸からレンズ有効径までの最大非球面量を△ASPH、物像間距離をLとしたとき、|△ASPH/L|>1×10-6を満足し、かつ面の中心から周辺部にかけて、互いに局所曲率パワーの変化が逆符号の領域を有することを特徴とする投影光学系。
IPC (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (38件)：
2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA02 ,  2H087NA04 ,  2H087PA13 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB13 ,  2H087PB15 ,  2H087PB16 ,  2H087PB17 ,  2H087PB19 ,  2H087QA01 ,  2H087QA02 ,  2H087QA06 ,  2H087QA13 ,  2H087QA14 ,  2H087QA21 ,  2H087QA22 ,  2H087QA25 ,  2H087QA26 ,  2H087QA32 ,  2H087QA34 ,  2H087QA37 ,  2H087QA41 ,  2H087QA42 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA32 ,  2H087UA03 ,  2H087UA04 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB25
引用特許：
審査官引用 (11件)
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