特許
J-GLOBAL ID：200903032251040260

冷却装置及びX線装置

発明者：
澤野 成民

澤野 成民 について

, 
中迫 雅由

中迫 雅由 について


出願人/特許権者：
理学電機株式会社

理学電機株式会社 について


代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-166244
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357381
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：
【要約】【課題】 ガス吹き付け方式の冷却装置において対象物を安定して確実に-200°C以下の極低温度に冷却できるようにする。【解決手段】 対象物Mへ冷却用ガスを供給する第1ガス供給装置21,13,6,26と、冷却用ガスの周りに第2ガスを供給する第2ガス供給装置32,28とを有する冷却装置1である。冷却用ガスは低温のヘリウムガスであり、第2ガスはヘリウムガスよりも重いガス、例えば窒素ガスである。冷却用ガスの周りにそれよりも重いガスを流すことにより、冷却用ガスの流束が安定し、冷気の流れの拡散を抑えることができ、それ故、対象物を安定して確実に-200°C以下の温度に冷却できるようになった。
請求項（抜粋）：
対象物へ冷却用ガスを供給する第1ガス供給手段と、前記冷却用ガスの周りに第2ガスを供給する第2ガス供給手段とを有し、前記冷却用ガスはヘリウムガスであり、前記第2ガスは該ヘリウムガスよりも重いガスであることを特徴とする冷却装置。
IPC (6件)：
F25D 3/10 ,  G01N 1/28 ,  G01N 23/207 ,  G21K 1/06 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08
FI (6件)：
F25D 3/10 C ,  G01N 23/207 ,  G21K 1/06 T ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 C ,  G01N 1/28 K
Fターム (25件)：
2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001HA15 ,  2G001JA08 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001KA08 ,  2G001RA03 ,  2G001RA20 ,  2G001SA02 ,  2G052AA00 ,  2G052EB13 ,  2G052GA19 ,  3L044AA04 ,  3L044BA08 ,  3L044CA04 ,  3L044CA17 ,  3L044DA02 ,  3L044DB03 ,  3L044DD07 ,  3L044FA09 ,  3L044KA02 ,  3L044KA04
引用特許：
審査官引用 (10件)
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