特許

J-GLOBAL ID：200903032578984741

枚葉式基板洗浄方法、枚葉式基板洗浄装置および基板洗浄システム

発明者： 大蔵 領一 ,  高石 みゆき ,  山口 弘 ,  上川内 秀夫
出願人/特許権者： エス・イー・エス株式会社 ,  エムテック株式会社
代理人 (1件)： 佐野 章吾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-308285
公開番号（公開出願番号）：特開2001-223195
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：

【要約】【課題】 枚葉式ウェット洗浄の利点を生かし、高い清浄度雰囲気での洗浄を高精度に行なうことができる基板洗浄技術を提供する。【解決手段】 密閉された洗浄チャンバ80内に不活性気体供給部92によりN2 ガスを供給充満させながら、回転支持したウェハWの表面に噴射ノズル91により洗浄液を噴射供給してスピン洗浄することにより、洗浄チャンバ80内にパージされるN2 ガスにより、洗浄チャンバ80内のミストの巻き上がりが有効に防止されて、高い清浄度雰囲気でかつパーティクル等の再付着もほとんどなく、ウェハW毎の精密な処理を行なうことができる。

請求項（抜粋）：

基板を一枚ずつカセットレスでウェット洗浄する枚葉式基板洗浄方法であって、密閉された洗浄チャンバ内において、不活性気体を供給充満させながら、回転支持した基板の表面に洗浄液を噴射供給してスピン洗浄するようにしたことを特徴とする枚葉式基板洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 645 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (5件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 645 A ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z

Fターム (14件)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB45 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB15 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD11

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 回転薬液洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-150897   出願人：大見忠弘, 日曹エンジニアリング株式会社, 株式会社エムテーシー
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-167967   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 光ディスク原盤処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-298565   出願人：松下電器産業株式会社
• 基板洗浄装置のゲート装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357109   出願人：株式会社スガイ
• 被洗浄物の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-359096   出願人：花王株式会社
• 基板表面の処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-285901   出願人：株式会社プレテック
• 基板の乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-144488   出願人：株式会社カイジョー
• 基板処理装置および方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-189360   出願人：大日本スクリーン製造株式会社