特許
J-GLOBAL ID：200903034648274391
パターン欠陥検査方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
作田 康夫
, 井上 学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-206688
公開番号（公開出願番号）：特開2006-029881
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 グレインやモホロジーの誤検出や干渉光強度ムラの影響を低減して、様々なプロセスにおけるターゲット欠陥を安定に検出できるパターン欠陥検出方法及びその装置を提供すること。【解決手段】複数波長を出力する照明手段3および4から射出された光を、ビームスプリッタ6で反射しウェハ1に照射する。ウェハ1からの回折光は対物レンズ8で集光され、光変調ユニット7、11、13を通して、光検出部17にてイメージセンサに結像し、信号処理部18にて欠陥を検出する。ここで、光変調ユニットは複数の光学部品を選択的に用いて対象欠陥に最適化する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料上に形成されたパターンの欠陥を検査するパターン検査装置であって、
表面にパターンが形成された試料を照明する照明手段と、
該照明手段で照明された前記試料のパターンの光学像を形成する結像光学系手段と、
該結像光学系手段で結像させた光学像を検出して前記試料のパターンの画像を検出する検出手段と、
該検出手段で検出した画像を処理して前記試料上のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段と、
前記パターンに応じて前記照明手段の照明波長と前記照明手段及び/又は前記結像光学系手段の開口絞りとの組合せを選択する選択手段と
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051AC01
, 2G051BA01
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BA11
, 2G051BB07
, 2G051BB09
, 2G051CA04
, 2G051CB06
, 2G051DA05
, 2G051EA12
, 4M106AA01
, 4M106BA05
, 4M106BA07
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB08
, 4M106DB15
, 4M106DB19
, 4M106DJ04
, 4M106DJ11
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ23
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (16件)
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