特許
J-GLOBAL ID：200903034706480983
塗布膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361806
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176786
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 面内均一性の高い塗布膜を形成すると共にスループットの高い塗布膜形成装置を提供すること。また当該装置にて生じる振動を少なくすること。【解決手段】 ウエハをY方向に可動の基板保持部に保持し、該ウエハの上方にXY方向に移動可能に構成した塗布液ノズルを設ける。この塗布液ノズルを塗布液の供給を行いながらX方向に移動させ、X方向の移動領域端部にて折り返す際に塗布液ノズルと基板保持部とをY方向に逆向きに移動させる。この動作を繰り返し、一筆書きの要領でウエハ全体に塗布液の供給を行う。または基体の両側に夫々塗布液ノズルを設け、X方向に逆方向に、且つ基体の中心点に点対称となるように移動させて塗布液の供給を行う。このとき夫々の塗布液ノズルの移動により発生する衝撃は、基体を伝って相殺され、振動が抑えられる。
請求項（抜粋）：
基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部に保持された基板と対向して設けられ、当該基板に塗布液を吐出する塗布液ノズルと、塗布液ノズルをX方向に移動させるX方向駆動部と、塗布液ノズルをY方向に間欠的に移動させる塗布液ノズル用のY方向駆動部と、基板保持部をY方向に間欠的に移動させる基板保持部用のY方向駆動部と、を備え、塗布液ノズルをX方向に移動させることにより基板表面に塗布液を直線状に塗布した後、塗布液ノズル及び基板保持部を同時に互にY方向逆向きに間欠移動させて、既に塗布された領域の隣の領域に塗布液ノズルを対向させ、こうしてX方向に塗布した領域をY方向に順次並べていくことを特徴とする塗布膜形成装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 5/00 101
, B05C 11/10
, G03F 7/16 501
B05C 5/00 101
, B05C 11/10
, G03F 7/16 501
, H01L 21/30 564 Z
2H025AA00
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025EA04
, 4F041AA02
, 4F041AA06
, 4F041AB02
, 4F041BA05
, 4F041BA21
, 4F042AA07
, 4F042BA04
, 4F042BA08
, 4F042BA12
, 4F042BA27
, 4F042DF21
, 4F042DF30
, 5F046CD01
, 5F046CD03
, 5F046CD06
, 5F046JA02
, 5F046JA22
, 5F046JA27
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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