特許
J-GLOBAL ID:200903034889186965
多層型の静電チャック及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大塚 康徳 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-527703
公開番号(公開出願番号):特表平11-502062
出願日: 1996年03月01日
公開日(公表日): 1999年02月16日
要約:
【要約】ウェハ及びフラットパネルディスプレイを吸着するために好適な静電吸着電極を有するセラミック静電チャック装置である。このチャック装置は、吸着電極と、第2の絶縁層と、一方の吸着電極に電力を分配するための第1のメタライゼーション層と、第3の絶縁層と、他方の吸着電極に電力を分配するための第2のメタライゼーション層と、第4の絶縁層と、内側及び外側ヒータ電極と、第5の絶縁層と、ヒータ電極に電力を分配するための第3のメタライゼーション層と、少なくとも1つの他の絶縁層とを備える。絶縁層は、電極とメタライゼーション層とを内部連結するための導電フィードスルーを含む。
請求項(抜粋):
多層型の静電チャック装置であって、 電気的に絶縁するセラミック材料の第1の絶縁層と、 電気的に絶縁するセラミック材料の第2の絶縁層と、 前記第1及び第2の絶縁層の間に設けられ、第1及び第2の導電材料のストリップを有する静電吸着電極と、 セラミック材料を電気的に絶縁する第3の絶縁層と、 前記第2及び第3の絶縁層の間に設けられたヒータ電極と、 を備えることを特徴とする多層型静電チャック。
引用特許:
出願人引用 (10件)
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特開平4-300138
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ウエハー加熱装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-303289
出願人:日本碍子株式会社
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ウエハ剥し装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-048866
出願人:三菱電機株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-048541
出願人:東京エレクトロン株式会社
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静電チャック装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-180335
出願人:東京エレクトロン株式会社
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静電チャックの基板脱着方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-337397
出願人:富士通株式会社
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特開昭62-193141
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-273267
出願人:大見忠弘
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半導体ウエハの固定方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-016998
出願人:イートンコーポレーション
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特開平4-073950
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審査官引用 (15件)
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特開平4-300138
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特開平4-300138
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ウエハー加熱装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-303289
出願人:日本碍子株式会社
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ウエハ剥し装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-048866
出願人:三菱電機株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-048541
出願人:東京エレクトロン株式会社
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静電チャック装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-180335
出願人:東京エレクトロン株式会社
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静電チャックの基板脱着方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-337397
出願人:富士通株式会社
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特開昭62-193141
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特開昭62-193141
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-273267
出願人:大見忠弘
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半導体ウエハの固定方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-016998
出願人:イートンコーポレーション
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特開平4-300138
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特開昭62-193141
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-015971
出願人:東京エレクトロン株式会社
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-030268
出願人:富士通株式会社
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