特許
J-GLOBAL ID：200903036436227337

半導体装置の製造方法

発明者：
森永 典文

森永 典文 について


出願人/特許権者：
株式会社ルネサステクノロジ

株式会社ルネサステクノロジ について


代理人 (1件)： 玉村 静世
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-033922
公開番号（公開出願番号）：特開2009-194184
出願日： 2008年02月15日
公開日（公表日）： 2009年08月27日
要約：
【課題】バッチ処理の縦型炉は,ウェハを搬送ロボットアームによって、縦型のボートに搬送した後、ボートを炉体に挿入し、プロセス処理を行う。このような縦型炉では、ボートへのウェハ搬送位置等に関して、一旦、人手で調整が行われた後には、定量的・定期的な位置ずれ等の監視は行われていなかった。このため、ウェハ搬送ロボットによるウェハ搬送を行う際、ウェハとボート間等で衝突が起こるという問題があった。【解決手段】本願発明はウエハのウエハ処理ボートへのウエハのロード等の際に、ウエハを搬送機構に保持した状態で、ウエハ処理ボート上の基準高さとウエハを搬送機構に保持したウエハの高さの関係をモニタし、その結果に基づいて、ウエハ、ボート、及び搬送機構のいずれか二つの間の不所望な衝突又は接触等を起こす可能性をあらかじめ自動検出するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
以下の工程を含む半導体装置の製造方法: (a)多数の被処理ウエハを一括して処理するバッチ処理方式の縦型ウエハ処理装置内において、前記多数の被処理ウエハの内の複数の被処理ウエハを複数のウエハ・ツィーザを有するウエハ搬送ロボットまたは複数のウエハ・ツィーザを有する他のウエハ搬送ロボットにより保持して、ウエハ処理用ボート上に、その主軸に添って前記多数の被処理ウエハの各主面が前記ウエハ処理用ボートの前記主軸とほぼ直交するようにロードする複数回のウエハ・ロード動作サイクルを繰り返すことによって、前記多数の被処理ウエハを前記ウエハ処理用ボート上に移し変える工程; (b)前記多数の被処理ウエハを収容した前記ウエハ処理用ボートをウエハ処理室に挿入する工程; (c)前記ウエハ処理室内において、前記多数の被処理ウエハに対して、前記ウエハ処理用ボートの前記主軸がほぼ垂直の状態で、ウエハ処理を施す工程; (d)前記ウエハ処理が完了した前記多数の被処理ウエハを収容した前記ウエハ処理用ボートを前記ウエハ処理室から排出する工程; (e)前記ウエハ処理室から排出した前記ウエハ処理用ボート上の前記多数の被処理ウエハの内の複数の被処理ウエハを前記ウエハ搬送ロボットまたは前記他のウエハ搬送ロボットにより保持して、前記ウエハ処理用ボート外に搬出する複数回のウエハ・アンロード動作サイクルを繰り返すことによって、前記ウエハ処理用ボート上の前記多数の被処理ウエハを前記ウエハ処理用ボート外に搬出する工程、 ここで、前記工程(a)の前記複数回のウエハ・ロード動作サイクルの少なくとも一つ、または(e)の前記複数回のウエハ・アンロード動作サイクルの少なくとも一つは、以下の下位工程を含む: (x1)前記ウエハ搬送ロボットまたは前記他のウエハ搬送ロボットの複数のウエハ・ツィーザにより、複数の被処理ウエハを保持した状態で、前記ウエハ処理用ボート上の前記主軸に直交する基準面と、保持している複数の被処理ウエハの内の少なくとも一つのウエハとの相対距離を検出する工程。
IPC (6件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/823 ,  H01L 27/092 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/306
FI (5件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/22 511J ,  H01L27/08 321A ,  H01L21/31 B ,  H01L21/302 101G
Fターム (46件)：
5F004AA06 ,  5F004AA16 ,  5F004BB02 ,  5F004BB19 ,  5F004BC06 ,  5F004CB09 ,  5F031CA02 ,  5F031CA11 ,  5F031DA08 ,  5F031FA01 ,  5F031FA09 ,  5F031FA12 ,  5F031FA25 ,  5F031GA03 ,  5F031GA08 ,  5F031HA62 ,  5F031JA05 ,  5F031JA23 ,  5F031JA30 ,  5F031JA32 ,  5F031KA10 ,  5F031KA15 ,  5F031MA28 ,  5F031MA30 ,  5F031PA20 ,  5F045BB08 ,  5F045DP19 ,  5F045EN04 ,  5F045EN05 ,  5F045EN06 ,  5F048AA04 ,  5F048AA07 ,  5F048AC03 ,  5F048BA01 ,  5F048BB05 ,  5F048BB08 ,  5F048BB09 ,  5F048BB12 ,  5F048BC06 ,  5F048BD04 ,  5F048BE03 ,  5F048BF06 ,  5F048BF11 ,  5F048BF16 ,  5F048BG13 ,  5F048DA25
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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