特許
J-GLOBAL ID:200903036441822812
シルセスキオキサン系化合物混合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小島 隆司
, 重松 沙織
, 小林 克成
, 石川 武史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-084411
公開番号(公開出願番号):特開2006-307180
出願日: 2006年03月27日
公開日(公表日): 2006年11月09日
要約:
【解決手段】一般式(1)(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X1,X2,X3はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100%であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100%であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)
IPC (5件):
C08G 77/06
, G03F 7/075
, G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
FI (5件):
C08G77/06
, G03F7/075 521
, G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
Fターム (58件):
2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB33
, 2H025CB41
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 2H025FA41
, 4J246AA03
, 4J246AB07
, 4J246BA12X
, 4J246BA120
, 4J246BB02X
, 4J246BB020
, 4J246BB022
, 4J246CA010
, 4J246CA030
, 4J246CA14X
, 4J246CA140
, 4J246CA210
, 4J246CA250
, 4J246CA260
, 4J246CA390
, 4J246CA400
, 4J246CA410
, 4J246CA46X
, 4J246CA460
, 4J246CA530
, 4J246CA63X
, 4J246CA630
, 4J246CA66X
, 4J246CA660
, 4J246FA071
, 4J246FA081
, 4J246FA121
, 4J246FA131
, 4J246FA371
, 4J246FA381
, 4J246FA431
, 4J246FB081
, 4J246FB211
, 4J246FC061
, 4J246GA01
, 4J246GA02
, 4J246GA11
, 4J246GA12
, 4J246GC26
, 4J246GD08
, 4J246HA15
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (16件)
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