特許
J-GLOBAL ID:200903038721283103
ダイオード
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
矢作 和行
, 野々部 泰平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-218800
公開番号(公開出願番号):特開2008-047565
出願日: 2006年08月10日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】半導体基板の第1面側と第2面側とで対となる電極を有した縦型のダイオードであって、キャリア注入量の低減と高耐圧化を両立することのできるダイオードを提供する。【解決手段】第1導電型(N-)半導体基板1の第1面1S側における表層部に、第2導電型(P)不純物領域2が形成され、基板面内の第2導電型不純物領域2が形成された領域内に、深さの揃った複数の絶縁埋め込みトレンチTが、基板断面において先端が第2導電型不純物領域2から突出するようにして形成され、第1面1S側の電極4が、第2導電型不純物領域2に接続されてなるダイオード100とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1導電型半導体基板の第1面側と第2面側とで対となる電極を有した、縦型のダイオードであって、
前記半導体基板の第1面側における表層部に、第2導電型不純物領域が形成され、
基板面内の前記第2導電型不純物領域が形成された領域内に、深さの揃った複数の絶縁埋め込みトレンチが、基板断面において先端が前記第2導電型不純物領域から突出するようにして形成され、
前記第1面側の電極が、前記第2導電型不純物領域に接続されてなることを特徴とするダイオード。
IPC (5件):
H01L 29/861
, H01L 29/739
, H01L 29/78
, H01L 21/823
, H01L 27/06
FI (6件):
H01L29/91 D
, H01L29/78 655F
, H01L29/78 653A
, H01L29/78 652N
, H01L27/06 102A
, H01L27/06 311B
Fターム (16件):
5F048AA05
, 5F048AA09
, 5F048AB04
, 5F048AC10
, 5F048BA02
, 5F048BA06
, 5F048BB05
, 5F048BB19
, 5F048BC03
, 5F048BC12
, 5F048BD07
, 5F048BE09
, 5F048BH01
, 5F048CB07
, 5F048CC06
, 5F048CC18
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
半導体装置およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-161042
出願人:三菱電機株式会社
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-001326
出願人:富士電機株式会社
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-231511
出願人:新電元工業株式会社
審査官引用 (10件)
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-351374
出願人:株式会社東芝
-
プレーナ型半導体素子およびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-281503
出願人:株式会社高岳製作所
-
半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-216987
出願人:株式会社東芝
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