特許
J-GLOBAL ID:200903038721283103

ダイオード

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 矢作 和行 ,  野々部 泰平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-218800
公開番号(公開出願番号):特開2008-047565
出願日: 2006年08月10日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】半導体基板の第1面側と第2面側とで対となる電極を有した縦型のダイオードであって、キャリア注入量の低減と高耐圧化を両立することのできるダイオードを提供する。【解決手段】第1導電型(N-)半導体基板1の第1面1S側における表層部に、第2導電型(P)不純物領域2が形成され、基板面内の第2導電型不純物領域2が形成された領域内に、深さの揃った複数の絶縁埋め込みトレンチTが、基板断面において先端が第2導電型不純物領域2から突出するようにして形成され、第1面1S側の電極4が、第2導電型不純物領域2に接続されてなるダイオード100とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
第1導電型半導体基板の第1面側と第2面側とで対となる電極を有した、縦型のダイオードであって、 前記半導体基板の第1面側における表層部に、第2導電型不純物領域が形成され、 基板面内の前記第2導電型不純物領域が形成された領域内に、深さの揃った複数の絶縁埋め込みトレンチが、基板断面において先端が前記第2導電型不純物領域から突出するようにして形成され、 前記第1面側の電極が、前記第2導電型不純物領域に接続されてなることを特徴とするダイオード。
IPC (5件):
H01L 29/861 ,  H01L 29/739 ,  H01L 29/78 ,  H01L 21/823 ,  H01L 27/06
FI (6件):
H01L29/91 D ,  H01L29/78 655F ,  H01L29/78 653A ,  H01L29/78 652N ,  H01L27/06 102A ,  H01L27/06 311B
Fターム (16件):
5F048AA05 ,  5F048AA09 ,  5F048AB04 ,  5F048AC10 ,  5F048BA02 ,  5F048BA06 ,  5F048BB05 ,  5F048BB19 ,  5F048BC03 ,  5F048BC12 ,  5F048BD07 ,  5F048BE09 ,  5F048BH01 ,  5F048CB07 ,  5F048CC06 ,  5F048CC18
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 半導体装置およびその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-161042   出願人:三菱電機株式会社
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-001326   出願人:富士電機株式会社
  • 半導体装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-231511   出願人:新電元工業株式会社
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る