パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-033568
公開番号（公開出願番号）：特開2006-220865
出願日： 2005年02月09日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】現像液中での耐傷性が良好であり、解像度及びテント性に優れ、レジスト線幅のばらつきが小さく、高感度であり、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、感光層がバインダー、ヘテロ縮環系化合物、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を3つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料。該ヘテロ縮環系化合物が、アクリドン化合物である態様が好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、感光層がバインダー、ヘテロ縮環系化合物、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を少なくとも含むと共に、前記重合性化合物が、分子中に重合性基を3つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/027 , G03F 7/031 , G03F 7/20

FI (5件)：

G03F7/004 512 , G03F7/004 501 , G03F7/027 502 , G03F7/031 , G03F7/20 501

Fターム (20件)：

2H025AA01 , 2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA13 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025BC65 , 2H025BC66 , 2H025BC82 , 2H025BC83 , 2H025CA00 , 2H025CA28 , 2H025CC01 , 2H025FA03 , 2H025FA17 , 2H097FA02 , 2H097LA09

引用特許：

出願人引用 (6件)

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-062565 出願人：日立化成工業株式会社
感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-218736 出願人：日立化成工業株式会社
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-011487 出願人：日立化成工業株式会社

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審査官引用 (10件)

感光性樹脂組成物、感光性転写材料及び画像形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-147547 出願人：富士写真フイルム株式会社
感光性転写材料、画像形成方法及びカラーフィルタ
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-136132 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開平2-305807

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