特許
J-GLOBAL ID：200903043662814233

反射防止膜形成用組成物及びそれを用いた反射防止膜の製造方法、光学部品、太陽電池ユニット

発明者：
岡庭 香

岡庭 香 について

, 
阿部 浩一

阿部 浩一 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-138693
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099693
出願日： 2004年05月07日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 低屈折性に優れ、十分な機械強度を有し、従来に比して低温・短時間で硬化させることが可能な反射防止膜形成用組成物及びそれを用いた反射防止膜の製造方法、光学部品、太陽電池ユニットを提供する。 【解決手段】 (a)成分:一般式(1)で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、(b)成分:(a)成分を溶解可能な非プロトン性溶媒と、(c)成分:オニウム塩と、を含む反射防止膜形成用組成物。 【化1】(一般式(1)中、R1は、H原子若しくはF原子、又はB原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子若しくはTi原子を含む基、又は炭素数1〜20の有機基を示し、Xは加水分解性基を示し、nは0〜2の整数を示し、nが2のとき、各R1は同一でも異なっていてもよく、nが0〜2のとき、各Xは同一でも異なっていてもよい)【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
(a)成分:一般式(1)で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、(b)成分:(a)成分を溶解可能な非プロトン性溶媒と、(c)成分:オニウム塩と、を含む反射防止膜形成用組成物。
IPC (6件)：
G02B1/11 ,  C08K5/04 ,  C08K5/19 ,  C08L83/04 ,  H01L31/04 ,  H01L31/042
FI (6件)：
G02B1/10 A ,  C08K5/04 ,  C08K5/19 ,  C08L83/04 ,  H01L31/04 F ,  H01L31/04 R
Fターム (38件)：
2K009AA02 ,  2K009CC21 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  4J002CP031 ,  4J002ED026 ,  4J002EE036 ,  4J002EH026 ,  4J002EN026 ,  4J002EN137 ,  4J002EV206 ,  4J002EW177 ,  4J002GP00 ,  4J038DD002 ,  4J038DF022 ,  4J038DG002 ,  4J038DL021 ,  4J038DL031 ,  4J038JA17 ,  4J038JA25 ,  4J038JA35 ,  4J038JA55 ,  4J038JB01 ,  4J038JB12 ,  4J038JC13 ,  4J038JC17 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038MA09 ,  5F051BA16 ,  5F051HA04 ,  5F051JA03 ,  5F051JA04 ,  5F051JA05 ,  5F051JA20
引用特許：
出願人引用 (14件)
  • 特開昭58-116507号公報
  • 反射防止膜の成膜方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-152848   出願人：オリンパス光学工業株式会社
  • 反射防止膜
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-056158   出願人：住友大阪セメント株式会社
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審査官引用 (5件)
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