特許
J-GLOBAL ID：200903043680365896

重合性エステル化合物、重合体、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
渡辺 武

渡辺 武 について

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金生 剛

金生 剛 について

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長谷川 幸士

長谷川 幸士 について

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橘 誠一郎

橘 誠一郎 について

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大橋 正樹

大橋 正樹 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-186297
公開番号（公開出願番号）：特開2008-013662
出願日： 2006年07月06日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【解決手段】式(1)〜(4)のいずれかで示される構造上β-脱離による酸分解を起こさない重合性酸不安定エステル化合物。(A1は炭素-炭素二重結合を有する重合性官能基、R1は水素原子又は-C-(R5)3、R2、R3はアルキル基、R4は水素原子又はアルキル基、R5は一価炭化水素基、Xはアルキレン基、Yはメチレン、エチレン又はイソプロピリデン基、Zはアルキレン基、両端で結合する3炭素鎖と共に4〜7員環を形成する。n=1又は2、R1〜R5、X、Y及びZは炭素原子及び水素原子以外のヘテロ原子を含まない。)【効果】本発明の重合体を含有するレジスト材料は、高感度で高解像性を有し、特に超LSI製造用の微細パターン形成材料として好適である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)〜(4)のいずれかで示される、構造上β-脱離による酸分解を起こさないことを特徴とする重合性酸不安定エステル化合物。
IPC (7件)：
C08F 20/26 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C07C 69/54 ,  C07C 69/753 ,  C07C 69/734
FI (7件)：
C08F20/26 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C69/54 Z ,  C07C69/753 Z ,  C07C69/734 Z
Fターム (37件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ30 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BP10 ,  4H006KC14 ,  4H006KC20 ,  4H006KE00 ,  4J100AL08P ,  4J100BA02P ,  4J100BC02P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (13件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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