特許
J-GLOBAL ID：200903044434772330

露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

発明者：
蛭川 茂

蛭川 茂 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-064667
公開番号（公開出願番号）：特開2006-253241
出願日： 2005年03月08日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】 格子状に配列されたパターンを転写する際に、広い焦点深度を確保した上で解像度を向上する。【解決手段】 格子状に配列されたパターンをそれぞれ囲むように位相反転型の補助パターンを形成したマスクパターンを用意する。そのマスクパターンを照明する照明光学系の瞳面PILにおける二次光源をσ値の小さい4極状の二次光源21A〜21D、又は十字型の二次光源22にするとともに、二次光源21A〜21D又は22からの照明光の偏光状態を光軸AXから放射方向に直線偏光となるように設定する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
格子状に配列された複数の第1パターンを投影光学系を介して物体上に転写露光する露光方法であって、 複数の前記第1パターンの近傍にそれぞれ前記第1パターンに対して位相が異なる第2パターンを配置する工程と、 照明光学系からの露光ビームで複数の前記第1パターン及び前記第2パターンを照明するに際して、前記照明光学系の瞳面上で光軸からずれた領域を含む変形領域における前記露光ビームの光量を他の領域よりも高める工程と、 複数の前記第1パターンの像を前記投影光学系を介して前記物体上に投影する工程とを含むことを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20
FI (5件)：
H01L21/30 514C ,  G03F1/08 A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 502P
Fターム (17件)：
2H095BA01 ,  2H095BB03 ,  2H095BC24 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA08 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB10 ,  5F046CB11 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB15 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特公昭62-50811号公報
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM