全反射蛍光X線分析方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-231713
公開番号（公開出願番号）：特開2007-093593
出願日： 2006年08月29日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】1次X線の強度を低下させることなく試料の微小領域に集光させることができるようにする。【解決手段】試料1を載置する試料台13と、1次X線を試料1の表面に対し全反射を起こす入射角で入射させる1次X線照射部2と、試料1の表面に対向して配置され、試料1から発生する蛍光X線を検出する検出器11とを備えている。1次X線照射部2は1次X線を発生するX線源3、及びその1次X線を集光して試料1に照射するポリキャピラリーX線レンズ5を備え、さらに好ましくはポリキャピラリーX線レンズ5から出射した1次X線のうち試料表面に対して全反射条件を満たさない入射角をもつ1次X線を遮蔽するスリット7を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

X線源からの1次X線を試料表面に向かって全反射を起こす入射角で入射させ、前記試料表面に対向させた検出器で前記1次X線を受けた試料表面から発生する蛍光X線を検出する全反射蛍光X線分析方法において、前記試料表面に照射する1次X線を、ポリキャピラリーX線レンズを用いて集光させることを特徴とする全反射蛍光X線分析方法。

IPC (3件)：

G01N 23/223 , G21K 1/00 , G21K 1/06

FI (3件)：

G01N23/223 , G21K1/00 X , G21K1/06 B

Fターム (25件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001CA01 , 2G001EA03 , 2G001EA06 , 2G001EA09 , 2G001FA02 , 2G001GA01 , 2G001GA13 , 2G001HA09 , 2G001HA13 , 2G001JA04 , 2G001JA12 , 2G001KA01 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001NA02 , 2G001NA07 , 2G001PA11 , 2G001PA12 , 2G001PA14 , 2G001SA02 , 2G001SA10 , 2G001SA29 , 2G001SA30

引用特許：

出願人引用 (1件)

全反射蛍光X線分析方法および分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-131370 出願人：理学電機工業株式会社, 株式会社東芝

審査官引用 (7件)

X線蛍光分光システム及びX線蛍光分光方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-505939 出願人：エックス-レイオプティカルシステムズインコーポレーテッド
全反射蛍光X線分析方法および分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-131370 出願人：理学電機工業株式会社, 株式会社東芝
全反射蛍光X線分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-215672 出願人：株式会社日立製作所

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