特許
J-GLOBAL ID：200903044952083654
フォトレジスト用重合体、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369258
公開番号（公開出願番号）：特開平11-310611
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 1999年11月09日
要約：
【要約】【課題】 フォトレジスト用重合体、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法が提供される。【解決手段】 重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(COOR1)2(R1は炭化水素基または炭化水素基の誘導体)が結合され、3つ以上の相異なるモノマーが重合された重合体を含む。これにより、コントラストが大きく、熱分解温度が高くて優秀なプロファイルのパターンを形成しうる。
請求項（抜粋）：
重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(COOR1)2(R1は炭化水素基または炭化水素基の誘導体)が結合され、3つ以上の相異なるモノマーが重合された重合体を含む化学増幅型フォトレジスト用重合体。
IPC (6件)：
C08F 8/12
, C08F212/14
, C08K 5/17
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, G03F 7/039 601
C08F 8/12
, C08F212/14
, C08K 5/17
, C08K 5/42
, C08L 25/18
, G03F 7/039 601
