レジスト用ポリマー溶液およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小野信夫 , 高橋徳明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-413627
公開番号（公開出願番号）：特開2005-173252
出願日： 2003年12月11日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】不純物を含まず、微細なパターン形成に用いられるレジスト用ポリマーを供給することおよび当該レジスト用ポリマーを製造する方法を提供すること。【解決手段】酸の作用で分解してアルカリ可溶性になる繰り返し単位と、極性基を含有する繰り返し単位とを含むレジスト用ポリマーを、塗膜形成用溶媒に溶解したレジスト用ポリマー溶液であって、該塗膜形成用溶媒の沸点以下である不純物の量が、レジスト用ポリマーに対して1質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマー溶液、および工程(1)レジスト用ポリマーを含有する固形物を、少なくとも1種以上の溶媒(a)塗膜形成用溶媒,(b)常圧における沸点が、溶媒(a)の沸点以下である溶媒,を含む溶媒に再溶解させる再溶解工程,(2)上記工程(1)で得られた再溶解液から、溶媒(b)を減圧下で留去する不純物除去工程を含むレジスト用ポリマー溶液の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも酸の作用で分解してアルカリ可溶性になる繰り返し単位と、極性基を含有する繰り返し単位とを含むレジスト用ポリマーを、少なくとも1種以上の塗膜形成用溶媒に溶解したレジスト用ポリマー溶液であって、当該溶液中の常圧における沸点が該塗膜形成用溶媒の沸点以下である不純物の量が、レジスト用ポリマーに対して、1質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマー溶液。

IPC (5件)：

G03F7/004 , C08F6/10 , G03F7/039 , G03F7/26 , H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/004 501 , C08F6/10 , G03F7/039 601 , G03F7/26 , H01L21/30 502R

Fターム (52件)：

2H025AA03 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096LA17 , 2H096LA30 , 4J100AB02R , 4J100AB03P , 4J100AB03Q , 4J100AB03R , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AJ02P , 4J100AJ02Q , 4J100AJ02R , 4J100AJ03P , 4J100AJ03Q , 4J100AJ03R , 4J100AJ09P , 4J100AJ09Q , 4J100AL08R , 4J100AR09R , 4J100AR10R , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100BA03P , 4J100BA03Q , 4J100BA11Q , 4J100BA16P , 4J100BA16Q , 4J100BA16R , 4J100BB17P , 4J100BB17Q , 4J100BB17R , 4J100BC12P , 4J100BC12Q , 4J100BC12R , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100GC35 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開昭59-045439号公報
ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-043974 出願人：富士写真フイルム株式会社
パターン形成材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-275149 出願人：三菱電機株式会社

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審査官引用 (6件)

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-307366 出願人：富士写真フイルム株式会社
感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-233255 出願人：ジェイエスアール株式会社
分別したノボラック樹脂およびそれから得られるフォトレジスト組成物
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-539076 出願人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド

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