特許
J-GLOBAL ID：200903045287315030
高次シラン組成物及び該組成物を用いたシリコン膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
稲葉 良幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-119961
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313299
出願日： 2002年04月22日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、基板に塗布する場合の濡れ性、沸点及び安全性の観点から分子量のより大きな高次シラン化合物を含み、特に、容易に且つ良質なシリコン膜を形成することができる高次シラン組成物、及び該組成物を用いて優れたシリコン膜を形成する方法を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明は、光重合性を有するシラン化合物の溶液又は光重合性を有する液体状のシラン化合物に、紫外線を照射することにより光重合してなる高次シラン化合物を含有することを特徴とする高次シラン組成物を提供することにより、前記課題を解決したものである。また、本発明は、前記高次シラン組成物を、基板に塗布することを特徴とするシリコン膜の形成方法を提供するものである。
請求項（抜粋）：
光重合性を有する液体状のシラン化合物に、紫外線を照射することにより光重合してなる高次シラン化合物を含有することを特徴とする高次シラン組成物。
IPC (3件)：
C08G 77/60
, C01B 33/029
, H01L 21/368
C08G 77/60
, C01B 33/029
, H01L 21/368 Z
4G072AA01
, 4G072AA02
, 4G072AA05
, 4G072AA07
, 4G072BB09
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH04
, 4G072MM01
, 4G072RR01
, 4G072RR11
, 4J035JA01
, 4J035JB02
, 4J035LA00
, 4J035LB20
, 5F053AA06
, 5F053AA50
, 5F053DD01
, 5F053FF05
, 5F053GG03
, 5F053HH05
, 5F053JJ01
, 5F053JJ03
, 5F053LL05
, 5F053PP20
, 5F053RR04
