特許
J-GLOBAL ID：200903046659573127
プラズマ生成装置、表面処理装置、表示装置、および流体改質装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-313632
公開番号（公開出願番号）：特開2008-130343
出願日： 2006年11月20日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：
【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。【解決手段】プラズマ生成装置10は、導体線4と絶縁層5からなる第1絶縁被覆線1と、導体線6と絶縁層7からなる第2絶縁被覆線2とを撚り合わせた撚線構造からなるプラズマ生成部8を設け、両絶縁被覆線1,2間に交流電圧を印加することで、両絶縁被覆線間1,2に生じる微小な隙間においてプラズマPを生成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1導電体と、第2導電体と、上記第1導電体と上記第2導電体との間に備えられた少なくとも1層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、上記第1導電体と上記第2導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、
上記第1導電体と上記第2導電体とは上記絶縁層を介して互いに接触しており、
上記第1導電体と上記第2導電体とが上記絶縁層を介して互いに接触する接触部の周囲における、上記第1導電体と上記絶縁層との間、上記第2導電体と上記絶縁層との間、上記絶縁層同士の間のいずれか1つ以上に、プラズマ化する流体に晒された隙間が形成されていることを特徴とするプラズマ生成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
4G075AA03
, 4G075AA13
, 4G075AA30
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075BA06
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075BC10
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EB41
, 4G075FC11
, 4G075FC15
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
