基板載置台および処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-287124
公開番号（公開出願番号）：特開2005-033221
出願日： 2004年09月30日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】基板載置台の表面に付着物が蓄積することによって生じるエッチングむら等の処理むらを防止し、基板が基板載置台に吸着されてしまうこと等を防止する。【解決手段】基材4aと、基材4a上に形成された誘電性材料膜6と、誘電性材料膜6の上に形成されたセラミックスからなる複数の凸部7とを備え、基板に処理を施す際に基板を載置する基板載置台であって、表面に、外縁に沿って、上記凸部の高さ以上の高さを有する台部101が設けられており、凸部7は、溶射により形成されたものであり、その上部が曲面のみからなる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基材と、前記基材上に形成された誘電性材料膜と、前記誘電性材料膜の上に形成されたセラミックスからなる複数の凸部とを備え、基板に処理を施す際に基板を載置する基板載置台であって、表面に、外縁に沿って、上記凸部の高さ以上の高さを有する台部が設けられており、前記凸部は、溶射により形成されたものであり、その上部が曲面のみからなることを特徴とする基板載置台。

IPC (3件)：

H01L21/68 , H01L21/3065 , H01L21/31

FI (3件)：

H01L21/68 R , H01L21/31 C , H01L21/302 101G

Fターム (26件)：

5F004AA01 , 5F004AA16 , 5F004BA06 , 5F004BB18 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004BD03 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA08 , 5F031HA10 , 5F031HA16 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031PA26 , 5F045AA08 , 5F045BB02 , 5F045BB15 , 5F045EM02 , 5F045EM09

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭59-172237号公報
特開昭60-261377号公報
静電力低減のためのパターン付きサセプタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-120230 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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審査官引用 (8件)

静電チャック及びウエハの吸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-330663 出願人：富士通株式会社
真空吸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-046786 出願人：京セラ株式会社
ワークピースを支持する装置及び離間用マスクを構成する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-117688 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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