特許
J-GLOBAL ID：200903048193939447

化学気相成長材料及び化学気相成長方法

発明者：
酒井 達也

酒井 達也 について

, 
小宮 三四郎

小宮 三四郎 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について

, 
国立大学法人東京農工大学

国立大学法人東京農工大学 について


代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-061202
公開番号（公開出願番号）：特開2006-241557
出願日： 2005年03月04日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
【課題】 長期間の保存安定性に優れ、しかも良質なルテニウム膜を得ることができる化学的気相材料及びその化学的気相材料を用いてルテニウム膜を形成する簡易な方法の提供。【解決手段】 下記式(1)RuL2Y (1)ここで、Lは下記式(2)【化1】で表される基であり、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜10の炭化水素基又は炭素数1〜10のアルコキシ基であり、そしてYは1,5-シクロオクタジエン、1,3-シクロオクタジエン、1,4-シクロヘキサジエン、1,3-シクロヘキサジエン、シクロペンタジエニル、1,3-ブタジエンまたは2,3-ジメチル-1,3-ブタジエンである化合物からなる化学気相成長材料。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1) RuL2Y (1) ここで、Lは下記式(2)
IPC (5件)：
C23C 16/18 ,  C07C 49/92 ,  C07F 15/00 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/285
FI (5件)：
C23C16/18 ,  C07C49/92 ,  C07F15/00 A ,  H01L21/28 301R ,  H01L21/285 C
Fターム (15件)：
4H006AA03 ,  4H006AB82 ,  4H006AB91 ,  4H050AA03 ,  4H050AB82 ,  4H050AB91 ,  4H050WB11 ,  4H050WB21 ,  4K030AA11 ,  4K030BA01 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104DD45
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (1件)

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