特許
J-GLOBAL ID:200903048519697597
X線異物検出方法及びX線異物検出装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
有我 軍一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-211393
公開番号(公開出願番号):特開2007-024835
出願日: 2005年07月21日
公開日(公表日): 2007年02月01日
要約:
【課題】 X線画像中における異物をノイズ成分と確実に分別し得る高異物検出感度のX線異物検出方法及び装置を提供する。 【解決手段】 X線画像内の任意の注目画素に対してその近傍画素を含む単位処理範囲を設定し、複数の注目画素について各単位処理範囲ごとに注目画素及び近傍画素の画像濃度レベルを平均化する平滑化処理段階と、平滑化処理がなされた画像データの濃度レベルを所定の異物候補抽出用の閾値と比較してそれを超える異物候補の画像領域を抽出する抽出処理段階と、異物候補の画像領域についてその周縁部の有効画素を減じるようにその画像領域を縮小した後に縮小画像領域内の有効画素数を増加させるように縮小画像領域を拡大する収縮・膨張処理段階と、を含み、収縮・膨張処理された画像データによって生成される画像領域中に有効画素が所定数以上集まった孤立領域が形成されるか否かで検出すべき異物の有無を判定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被検査物を透過したX線の透過量に対応する所定のX線画像の画像データを原画像データとして処理し、前記被検査物への異物の混入を検出するX線異物検出方法であって、
前記X線画像内の異なる複数の注目画素に対し各注目画素ごとの近傍画素を含む単位処理範囲を設定して、各注目画素について対応する単位処理範囲内の前記原画像データの濃度レベルを平均し該注目画素の画像データに割り当てる平滑化処理段階と、
前記平滑化処理がなされた画像データの濃度レベルを所定の異物候補抽出用の閾値と比較して該閾値を超える異物候補の画像領域を抽出する抽出処理段階と、
前記抽出された異物候補の画像領域についてその周縁部の有効画素を減じるように該画像領域を縮小した後に該縮小した画像領域内の有効画素数を増加させるように該縮小した画像領域を拡大する収縮・膨張処理段階と、を含み、
前記収縮・膨張処理された画像データによって生成される画像領域中に前記有効画素が所定数以上集まった孤立領域が形成されるか否かで検出すべき異物の有無を判定するようにしたことを特徴とするX線異物検出方法。
IPC (3件):
G01N 23/04
, G01V 5/00
, G06T 5/30
FI (4件):
G01N23/04
, G01V5/00 A
, G06T5/30 A
, G06T5/30 B
Fターム (48件):
2G001AA01
, 2G001AA07
, 2G001BA11
, 2G001CA01
, 2G001CA07
, 2G001DA01
, 2G001DA02
, 2G001DA08
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001FA29
, 2G001GA03
, 2G001GA04
, 2G001GA05
, 2G001GA06
, 2G001GA07
, 2G001HA07
, 2G001HA13
, 2G001JA09
, 2G001JA11
, 2G001JA13
, 2G001JA16
, 2G001KA05
, 2G001LA01
, 2G001PA11
, 2G001SA02
, 5B057BA03
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC03
, 5B057CE02
, 5B057CE05
, 5B057CE09
, 5B057CE12
, 5B057CF01
, 5B057CF02
, 5B057CH18
, 5B057DA06
, 5B057DA15
, 5B057DA16
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC04
, 5B057DC36
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (7件)
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異物検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-382344
出願人:株式会社島津製作所
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樹脂成形体の空洞検査方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-072076
出願人:日立金属株式会社, 小畑秀文, 清水昭伸
-
光透過性対象物の検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-170183
出願人:大日本印刷株式会社
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