測定装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-226827
公開番号（公開出願番号）：特開2008-051602
出願日： 2006年08月23日
公開日（公表日）： 2008年03月06日
要約：

【課題】本発明の目的は高精度な測定を行うことのできる測定装置を提供することにある。【解決手段】測定時において、ワーク20に対して位置及び姿勢が変化しないように保持された基準部材12と、該ワーク20表面を走査しながら、該ワーク20表面の凹凸に応じて上下方向に変位するスタイラス14と、該スタイラス14の特定部位36の変位を該基準部材12との比較において測定する変位計16と、該スタイラス14を該ワーク20表面に沿って走査させる走査手段18と、を備え、該基準部材12は該走査によっても該ワーク20に対する位置及び姿勢が変化せず、該スタイラス14の特定部位36の上下方向への変位を該基準部材12を基準にして測定し、該測定されたスタイラス14の特定部位36の変位に基づき該ワーク20の微細な形状を把握することを特徴とする測定装置10。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

測定時において、ワークに対して位置と姿勢とが変化しないように保持された基準部材と、前記ワーク表面を走査しながら、該ワーク表面の凹凸に応じて上下方向に変位するスタイラスと、前記スタイラスの特定部位の変位を、前記基準部材との比較において測定する変位計と、前記スタイラスを前記ワーク表面に沿って走査させる走査手段と、を備え、前記基準部材は、前記走査によっても、該ワークに対する位置及び姿勢が変化せず、前記スタイラスの特定部位の上下方向の変位を、前記基準部材を基準にして測定し、該測定されたスタイラスの特定部位の変位に基づき、前記ワークの微細な形状を把握することを特徴とする測定装置。

IPC (5件)：

G01B 21/30 , G01N 13/14 , G01N 13/20 , G01B 7/00 , G01B 11/00

FI (5件)：

G01B21/30 , G01N13/14 B , G01N13/20 B , G01B7/00 101C , G01B11/00 G

Fターム (29件)：

2F063AA43 , 2F063DA02 , 2F063DA04 , 2F063DB06 , 2F063DC08 , 2F063EA16 , 2F063EB23 , 2F063HA01 , 2F065AA01 , 2F065AA02 , 2F065FF51 , 2F065HH03 , 2F065LL04 , 2F065LL12 , 2F065LL28 , 2F069AA60 , 2F069AA62 , 2F069GG01 , 2F069GG06 , 2F069GG07 , 2F069GG20 , 2F069GG52 , 2F069GG62 , 2F069HH30 , 2F069JJ06 , 2F069JJ07 , 2F069JJ13 , 2F069JJ14 , 2F069LL03

引用特許：

出願人引用 (5件)

走査型プローブ顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-381555 出願人：セイコーインスツルメンツ株式会社
走査型プローブ顕微鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-226522 出願人：オリンパス光学工業株式会社
スキャニングプローブ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-220669 出願人：オリンパス光学工業株式会社

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審査官引用 (4件)

形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-133908 出願人：株式会社リコー
半導体ウエハ支持用部材及び半導体ウエハの平面度測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-288411 出願人：松下電器産業株式会社
プローブ制御装置および形状測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-263185 出願人：キヤノン株式会社

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