有機被膜の除去方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：岩見谷周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-229697
公開番号（公開出願番号）：特開2003-203856
出願日： 2002年03月06日
公開日（公表日）： 2003年07月18日
要約：

【要約】【課題】高温でも安全で、循環再生使用ができる処理液を用いて、基体上の有機被膜、例えばレジスト膜を、短時間で効率的かつ経済的に除去する手段を提供すること。【解決手段】有機被膜を有する基体に、50〜200°Cに加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは両者の液状混合物からなる処理液を接触させて、基体表面の有機被膜を除去する方法。

請求項（抜粋）：

表面に有機被膜を有する基体に、50〜200°Cに加熱した液状の炭酸エチレン、炭酸プロピレンまたは炭酸エチレンと炭酸プロピレンとの液状混合物からなる処理液を接触させて、前記有機被膜を除去することを特徴とする有機被膜の除去方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 101 , H01L 21/304 647 , G03F 7/42

FI (4件)：

G02F 1/13 101 , H01L 21/304 647 A , G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

Fターム (14件)：

2H088FA23 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA08 , 2H088MA16 , 2H088MA20 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA02 , 2H096LA03 , 5F046MA02 , 5F046MA03 , 5F046MA05 , 5F046MA07

引用特許：

審査官引用 (12件)

レジスト剥離方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-322342 出願人：東レ株式会社
プロピレンカーボネートの回収方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-160619 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
リソグラフィー用リンス液及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-206215 出願人：東京応化工業株式会社

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