特許
J-GLOBAL ID：200903051359482522

基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法及び電子機器

発明者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


出願人/特許権者：
伊藤 美岳

伊藤 美岳 について


代理人 (1件)： 青木 宏義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-022636
公開番号（公開出願番号）：特開2008-124502
出願日： 2008年02月01日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】最小単位の装置のブロック構成化を図ることにより装置の配置構成に自由度を向上させ、装置構成上の問題を伴うことなく装置全体の小型化が向上し装置全体のフットプリントを小さくすること。【解決手段】被処理基板Gに対して所定の処理を施す処理部を一方向に複数配置して構成された処理部配置部21〜23と、この処理部配置部内に設けられ前記被処理基板を搬送する第1の搬送機構と、この処理部配置部外かつ前記一方のほぼ延長線上に固定してまたは前記一方向のほぼ延長線上に対して直交する方向に固定してまたは/及び前記一方向の延長線上と平行する線上を移動自在に設けられ前記第1の搬送機構に対して直接或いは間接的に前記被処理基板を受け渡し自在に構成された第2の搬送機構11〜15と、を具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板を複数収納自在に構成されたカセットを配置自在に構成され前記カセットに対し前記被処理基板を搬入出自在に構成された搬送機構を具備するカセット部と、このカセット部から第一の一直線上に配置され被処理基板を搬送する搬送機構を内部に備えるとともに前記被処理基板に対して複数の処理箇所にて現像処理を施す現像処理部と、前記第一の一直線上または前記第一の一直線上と直交する方向上かつ前記現像処理部のカセット部側とは異なる側に配置され被処理基板を搬送自在に構成された非自走式の搬送機構と、前記現像処理部に実質的に搬入される前記被処理基板の搬入位置より高い第一の高さ位置に配置され被処理基板に対して所定の熱処理を施す熱処理装置と、前記現像処理部に実質的に搬入される前記被処理基板の搬入位置より高く前記第一の高さ位置より低い第二の高さ位置に配置され被処理基板に対して温調処理を施す温調処理装置と、前記一直線上とは異なる第二の一直線上を自走して被処理基板を搬送自在に構成された自走式の搬送機構と、を具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/30 562
Fターム (57件)：
5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA05 ,  5F031GA06 ,  5F031GA07 ,  5F031GA30 ,  5F031GA35 ,  5F031GA37 ,  5F031GA38 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA53 ,  5F031GA60 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA42 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031KA03 ,  5F031KA15 ,  5F031LA15 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA06 ,  5F031MA09 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031MA30 ,  5F031MA33 ,  5F031NA02 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031NA17 ,  5F031PA06 ,  5F031PA11 ,  5F031PA18 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046HA07 ,  5F046JA27 ,  5F046KA10 ,  5F046LA19 ,  5F046LB10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 特開平2-144333号公報
審査官引用 (20件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-256565   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-057303   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-047639   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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